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Hitachi, Toshiba und Renesas Technology wollen bei der Chip-Produktion zusammenarbeiten: Geplant ist der Bau einer Fabrik. Zum Aufbau einer neuen Produktionsstätte müssten bis zu 714 Mio. Euro investiert werden, teilten die drei japanischen Elektronikkonzerne mit. Über Einzelheiten seien aber noch keine Entscheidungen gefallen. Im Januar wird die obligate Machbarkeitsstudie erstellt. Danach könnte alles wieder anders aussehen.

Das Joint Venture soll in Zukunft LSI-Systemchips mit einer Schaltkreis-Breite von höchstens 65 Nanometern produzieren. Die meisten Halbleiter-Fabriken verwenden derzeit eine Breite von 90 Nanometern. Die Konkurrenz, der weltgrösste Chiphersteller Intel, plant in Israel eine Fabrik mit der 45-Nanometer-Technologie.